在进行氢氧化钙浆液精制操作时，如果把旋液分离器中强旋流近似看作不定常数轴对称流动，那么在圆柱体坐标中，可定义流函数为：

        根据家对旋流分离器中V1、V2的分布，便可获取空间各点处的流函数，将等流函数的点连成曲线便是实测的流线图。局部二次流流态示意图可见图2。局部二次流主要有环形空间纵向流、溢流口短路流、底流口附近偏流等。具体情况如下：
        1、环形空间纵向流。在氢氧化钙浆液制取过程中，旋液分离器顶板下部有优异动缓慢的边界层，它的静压随半径变化比中部强旋流静压变化更为平缓，于是对外侧静压较高的流体向上流入此边界层内起到一定促进作用，并沿边界层向内侧流动，遇溢流管壁而转折向下，沿溢流管外壁下行，自下入口处进入溢流管，形成所谓的纵向环流。这与弯曲管道内形成的纵向环流相近。
        2、溢流管口附近短路流。溢流管下口处常存在较大向心径向速度，从图2可看出，旋流分离设备进料口速度越大，径向向心速度就越大。此种大的径向向心速度会将大量颗粒带入溢流口中，从而很大程度上影响氢氧化钙浆液制取时的分离效率。
        3、锥体下部底流口偏流。旋流分离设备下行流中一部分经底流口排出，另一部分则转折进入上行流，后者同时处于锥体部分较小空间，高速旋转的流体在底流口出产生剧烈的动量交换及湍流能量耗散，令内旋流不平衡。另外因溢流管的轴线不会于圆锥体轴向完全重合，因此内旋流波动就会较大，偏斜的内旋流下端将呈“摆尾”现象，周期性扫到锥体壁上，形成较多的偏心纵向环流，它会把已浓集在器壁上的大颗粒重新扬起并带入上行旋流内，形成“返混”，此种现象将很大程度影响氢氧化钙浆液分离效率。
        以上进行的氢氧化钙浆液精制过程，势必会应用到氢氧化钙设备等相关部件，与其相关信息可参考：http://www.cnyhks.com/products/3206.html